真空炉的选择和应用

真空炉可以在真空中进行热处理。冷壁真空炉和热壁真空炉是有区别的。冷壁真空炉使用一个水冷的真空接受器，在整个热处理过程中保持低温。加热元件位于该接受器内。另一方面，热壁真空炉的加热元件位于真空受体（如陶瓷或石英管）之外，而受体本身被加热。

在空气/氧化环境中，普通电阻型加热元件的*高温度为1800℃。对于高于这个温度，必须使用真空炉，并且必须应用非氧化性气氛。真空炉允许电阻型加热元件的温度高达3000℃。

许多应用需要真空热处理，例如真空焊接和钎焊、真空退火、烧结等。一般来说，任何类型的热处理都需要在规定的、大部分非氧化的气氛中进行真空炉。此外，使用真空炉进行与空气成分不同的确定的氧气浓度的热处理（例如，100%纯O2）也是有意义的。

当然，真空本身也是真空炉的一种可能的气氛。根据不同的应用，真空度可以是粗真空、细真空、高真空，甚至是超高真空。此外，由于真空炉可以完全去除空气气氛，因此也可以使用各种气体或混合物，如氩气、氮气、氢气、一氧化碳、氦气等。

通常，石墨、钼或钨加热元件被用于（冷壁）真空炉中。这些元素即使在高温下也拥有低压力。在真空中，有可能分别达到2200℃、1600℃和2200℃。