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在訂購階段，真空爐系列有許多不同的可選項，包括高階版本的軟件，數據記錄儀和精密的數字控制器。 這些有助于對真空爐的操作進行更多級別的控制，并提供完整的數據記錄功能。 此外，可以提供不同的真空泵，真空系統和冷卻系統，以滿足特定要求。 我們所有的真空爐均具有堅固的結構，可在可控的氣氛中實現快速均勻的升溫，使其成為眾多重型工業和實驗室應用的理想選擇。 真空爐的常見應用包括釬焊，燒結，退火，除氣，干燥，回火，焊接，淬火和硬化。 真空爐還可用于金屬注射成型（MIM）或陶瓷注射成型（CIM）以及金屬化，硅化，碳化和其他工業過程。 不同的真空爐有不同的應用。 真空鐘罩爐可提供高純度氣氛環境、且底部裝載的設計可輕松裝載樣品。 實驗室真空爐的設計比其他型號更緊湊，非常適合研發環境。卡博萊特蓋羅真空管式爐以非真空管式爐作為模型，但經過改裝并配備了專用真空單元。 工作管的直徑和長度選擇范圍廣。 HTRH-H2管式爐，可通氫氣。
真空爐可以在真空中進行熱處理。冷壁真空爐和熱壁真空爐是有區別的。冷壁真空爐使用一個水冷的真空接受器，在整個熱處理過程中保持低溫。加熱元件位于該接受器內。另一方面，熱壁真空爐的加熱元件位于真空受體（如陶瓷或石英管）之外，而受體本身被加熱。
在空氣/氧化環境中，普通電阻型加熱元件的*高溫度為1800℃。對于高于這個溫度，必須使用真空爐，并且必須應用非氧化性氣氛。真空爐允許電阻型加熱元件的溫度高達3000℃。
許多應用需要真空熱處理，例如真空焊接和釬焊、真空退火、燒結等。一般來說，任何類型的熱處理都需要在規定的、大部分非氧化的氣氛中進行真空爐。此外，使用真空爐進行與空氣成分不同的確定的氧氣濃度的熱處理（例如，100%純O2）也是有意義的。
當然，真空本身也是真空爐的一種可能的氣氛。根據不同的應用，真空度可以是粗真空、細真空、高真空，甚至是超高真空。此外，由于真空爐可以完全去除空氣氣氛，因此也可以使用各種氣體或混合物，如氬氣、氮氣、氫氣、一氧化碳、氦氣等。
通常，石墨、鉬或鎢加熱元件被用于（冷壁）真空爐中。這些元素即使在高溫下也擁有低壓力。在真空中，有可能分別達到2200℃、1600℃和2200℃。
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